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詳細介紹
| 品牌 | 國儀量子 | 產地類別 | 國產 |
|---|---|---|---|
| 價格區間 | 面議 | 應用領域 | 能源,電子/電池,電氣 |
| 圖像采集速度 | 10 ns/pixel，2*100 M pixel/s | 加速電壓 | 100 V~6 kV(減速模式) ； 6 kV~30 kV(非減速模式) |
| 分辨率 | 1.3nm@3kV，SE；1.5nm@1kV，SE，0.9nm@30kV，STEM | 視場大小 | 最大視場1*1 mm2，高分辨微畸變視場64*64 um2 |
| 樣品臺精度 | 重復定位精度：X ±0.6 um；Y ±0.3 um |
國儀量子HEM6000高速掃描電子顯微鏡是一款可實現跨尺度大規模樣品成像的高速掃描電子顯微鏡。采用高亮度大束流電子槍、高速電子偏轉系統、高壓樣品臺減速、動態光軸、浸沒式電磁復合物鏡等技術，實現了超快的數據采集和成像速度，同時保證了納米級分辨率。
國儀量子HEM6000高速掃描電子顯微鏡面向應用場景的自動化操作流程設計，使得大面積的高分辨率圖像采集工作更高效、更智能。成像速度可達常規場發射掃描電鏡的5倍以上。
高速掃描驅動器
駐點時間10 ns/pixel，
最快采集速度2*100 M pixel/s
電子過濾系統
SE/BSE信號自由切換，
信號混合比例可調
全靜電高速偏轉系統
可實現高分辨大場模式，
4 nm像素點最大視場達64*64 um2
樣品臺減速技術
降低入射電子落點電壓，
同時提高回收電子的收集效率
浸沒式電磁復合物鏡
物鏡磁場浸沒樣品
實現了低像差高分辨率
1、高速自動化
全自動上下樣流程和采圖作業，綜合成像速度優于常規場發射掃描電鏡的 5 倍
2、大場低畸變
跟隨掃描場動態變化的光軸，實現了更低的場邊緣畸變
3、低壓高分辨
樣品臺減速技術，實現低落點電壓，同時保證高分辨率
| 關鍵參數 | 分辨率 | 1.3nm@3 kV，SE ; 1.5nm@1 kV，SE | |
| 1.9nm@ 3 kV, BSE; 2.3nm@ 1 kV, BSE | |||
| 0.9nm@30kV，STEM | |||
| 加速電壓 | 100 V~6 kV(減速模式) | ||
| 6 kV~30 kV(非減速模式) | |||
| 放大倍率 | 66~1,000,000x | ||
| 電子槍類型 | 高亮度肖特基場發射電子槍 | ||
| 物鏡類型 | 浸沒式電磁復合物鏡 | ||
| 偏轉系統 | 靜電偏轉器 | ||
| 樣品裝載系統 | 真空系統 | 全自動控制，無油真空系統 | |
| 樣品監控 | 樣品倉監控水平攝像頭； 換樣倉監控垂直攝像頭 | ||
| 樣品最大尺寸 | 直徑4英寸 | ||
| 樣品臺 | 類型 | 電機驅動3軸樣品臺（*可選配壓電驅動樣品臺） | |
| 行程 | X、Y軸：110mm； Z軸：16mm； | ||
| 重復定位精度 | X軸：±0.6μm； Y軸：±0.3μm； | ||
| 換樣方式 | 全自動控制 | ||
| 換樣時間 | ＜15 min | ||
| 換樣倉清洗 | 全自動控制等離子清洗系統 | ||
| 圖像采集與處理 | 駐點時間 | 10 ns/pixel | |
| 圖像采集速度 | 2*100 M pixel/s | ||
| 圖像大小 | 24K*24K | ||
| 探測器和擴展 | 標配 | 鏡筒內混合電子探測器 | |
| 選配 | 低角度背散射電子探測器 | ||
| 鏡筒內高角度背散射電子探測器 | |||
明場透射電子探測器 | |||
| 高角/中角/底角暗場透射電子探測器 | |||
| 壓電驅動樣品臺 | |||
| 高分辨大場模式 | |||
| 樣品倉等離子清洗系統 | |||
| 6英寸樣品裝載系統 | |||
| 主動減震臺 | |||
| AI降噪；大圖拼接；三維重構 | |||
| 軟件 | 語言 | 中文 | |
| 操作系統 | Windows | ||
| 導航 | 光學導航、手勢快捷導航 | ||
| 自動功能 | 自動樣品識別、自動選區拍攝、自動亮度對比度、自動聚焦、自動像散 | ||
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